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    已经60岁的尹志尧放弃美国优越的物质待遇，回国创业，尹智遥表示：“给外国人做嫁衣已经做了很多事情了，那我们应该给自己的祖国和人民做一些贡献，所以就决心回来了。”

    与尹智遥一同回来的是三十位在应用材料、科林等国际巨头有着20—30年半导体设备研发制造的经验的资深工程师。

    在回国之际，所有技术专家承诺不会把美国公司的技术，包括设计图纸、工艺过程带回国内，美国方面也对归国人员持有的600多万个文件和所有个人电脑做了彻底清查。

    在回国之后，尹智遥团队从零开始，重新研发申请了专利，终于在2008年，中微半导体的刻蚀机开始打进国际市场。

    对于这种情况，国外公司无法接受中国人能在3年内做出高性能刻蚀机，应用材料和科林相继对中微半导体提起专利诉讼。

    在中微半导体拿出了关键技术的专利证据之后，两次扩日持久的诉讼都以中微半导体获胜告终。

    “这家企业不错，不仅科研实力雄厚，而且已经有一定成果，值得我们投资。”杭雨把中微半导体的资料发给岳勤四人，让他们也参谋一下。

    芯片内存都属于半导体产业，而我国半导体技术严重落后。

    想要做芯片内测，就得先把半导体的制造设备做出来，而中微就是做这个的。尹智遥这样一批高精尖人才，花钱都很难招聘得到。

    “团队阵容很强，可是他们三月份刚进行了第四次融资，我们现在又去投资，对方要不要先不说，关键是不太值得。”岳勤看了一下资料，很快提出疑问。

    “怎么不值得？”杭雨问道。

    “已经有多家企业融资，我们这么晚进入，占股肯定很少。而且他们做的刻蚀机，我们似乎并没有这方面需求，市场也不算特别大。”岳勤说道。

    刻蚀机是芯片生产制造的重要设备，不少人会将光刻机和刻蚀机搞混。

    其实光刻机和刻蚀机是两种设备，光刻机的工作原理是用激光将掩膜版上的电路结构临时复制到硅片上。而刻蚀机是按光刻机刻出的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，刻出沟槽或接触孔的设备。

    等离子体刻蚀机对加工精度的要求非常高，加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。以16nm的CPU来说，等离子体刻蚀的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一，加工的精度和重复性要达到五万分之一。
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